离子束系统可以实现：
稳定的膜层沉积速率；化学成分稳定
多种可选项，以适应不同应用要求：多种离子源可选；多种 工装夹具可选；多种镀膜控制方式可选；剩余气体分析；自动化控制方式可选
离子束溅射的优点：
成膜粒子动能大，因此，膜层致密性好，针眼少，对环境稳定
成膜真空度高（10-4TORR），因此，膜层纯度高
可以提供工件预处理以膜层附着力
独立控制离子能量和离子束流，可以提供更大的工艺灵活性，控制成膜组分，应力，围观结构等
稳定的沉淀速率，突出的膜层厚度控制和稳定的成膜均匀性
自动化控制-地工艺控制
倾斜式单旋转工件盘：
直径六英寸或八英寸的工件盘可选
水冷型
突出的沉积和刻蚀均匀性
倾斜式
可以通过调整倾斜角度得到工艺要求的台阶覆盖率
可以通过调节调节倾斜角度进一步均匀性
倾斜行星式工件盘：
三个直径六英寸的水冷型行星盘
采用行星式工件盘以得到更好的均匀性
突出的沉淀和刻蚀均匀性
倾斜式
离子束溅射沉积源：
多种型号射频或直流离子源可选
射频（3cm,6cm）
适合溅射工艺
污染小（无灯丝）
非常适合溅射介质材料，可以用于溅射金属
维护间隔时间超过200小时
※ 直流（3cm,5cm,8cm）
适合非反应溅射工艺
多种配置可供选择
等离子体桥状中和器：增强反应溅射工艺能力和小维护时间间隔在25-45小时
空心阴极中和器：减小污染，维护间隔时间长达150小时
非常适合溅射金属，可以用于溅射介质材料
离子源栅极选项：
材质：
石墨：适合无反应工艺
钼：适合大多数反应工艺
栅网结构：聚焦型离子源
发散型辅助或者预清洗源
采用三栅网结构可以使溅射工艺更加稳定
四栅网结构
靶材夹具：
当配置用于溅射时，配置水冷型四靶材夹具。可以装多四个直径5英寸的靶材。
泵选项：
机械泵：油泵/干泵
高真空泵：CTI低温冷凝泵/涡轮分子泵
终点控制：
溅射工艺：
时间控制：通常用于简单沉积工艺，少于20层；
石英晶体膜厚控制仪：MAXTEK260/360C，石英晶体失效情况下，采用时间控制
系统技术规格：
当配置为离子束沉积时，多可以安装四个直径5英寸靶材
提供单旋转倾斜式工装夹具，工件尺寸6英寸或8英寸，带水冷；
为获得更好的均匀性，提供行星式倾斜式工装夹具，三个6英寸行星工件盘，带水冷；
可以沉积无漂移光学薄膜；
可以在低于10-4 torr的真空度下沉积，成膜纯度；
配置双离子源时，可以实现基片预清洗，膜层附着力；
全自动成膜工艺控制；
·多种Veeco公司射频或直流离子源可供选择；
高真空低温泵或涡轮分子泵可选；
对于离子束沉积，成膜厚度控制可以采用时间控制或石英晶体膜厚控制仪控制；
离子束沉淀适合材料：
介质材料：SiO2,Ta2O5,Al2O3,TiO2,Si3N4等
金属材料：W, Au, Cu, Pt, NiFe, CrCo,Si等
IBE和RIBE适用材料：
介质材料：Si, SiO2, Al2O3, Polyimide等
金属材料：NiFe, Cu, Au, Al.
